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真空釬焊爐是一種真空爐的大型設(shè)備

真空釬焊爐主要由真空釬焊爐和真空系統(tǒng)兩部分組成，在真空狀態(tài)下，把一組焊接件加熱到填充金屬熔點(diǎn)溫度以上，但低于基體金屬熔點(diǎn)溫度，借助于填充金屬對(duì)基體金屬的濕潤(rùn)和流動(dòng)形成焊縫的一種焊接工藝（釬焊溫度因材料不同而異）。工作原理：該爐能夠進(jìn)行真空釬焊、真空退火、真空時(shí)效等多種加工。可編多個(gè)不同程序，能控制和編入上百個(gè)熱處理曲線點(diǎn)，分上、下、左右、前后六區(qū)控溫，有多點(diǎn)和單點(diǎn)溫度記錄儀以及過(guò)溫保護(hù)裝置，爐溫均勻性可控制在恒定溫度范圍以內(nèi)，另配有高純氮高流量強(qiáng)冷裝置。該設(shè)備具有裝爐量大、效...

1200℃管式爐采用高質(zhì)量電爐絲作為加熱元件

1200℃管式爐采用高質(zhì)量電爐絲作為加熱元件，加熱溫度可達(dá)1200℃，石英爐管管徑為50mm。該款隔熱屏真空熱處理爐各項(xiàng)指標(biāo)均達(dá)到了國(guó)際水平，可實(shí)現(xiàn)快速升溫和降溫，可實(shí)現(xiàn)無(wú)氧化、無(wú)脫碳、無(wú)滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達(dá)到表面光亮凈化的效果。主要運(yùn)用于冶金、玻璃、熱處理、鋰電正負(fù)極材料、新能源、磨具等行業(yè)，也可用于氣氛環(huán)境下的熱處理，也可用于組成CVD系統(tǒng)，進(jìn)行相關(guān)的鍍膜試驗(yàn)生產(chǎn)。1200℃管式爐產(chǎn)品特點(diǎn)：1、一體化設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊，外形美觀，自帶腳輪，移...

壓力燒結(jié)爐是生產(chǎn)高性能硬質(zhì)合金的關(guān)鍵設(shè)備

壓力燒結(jié)爐結(jié)合了脫蠟、真空燒結(jié)和后續(xù)的熱等靜壓致密化等工藝，用于硬質(zhì)合金或工程陶瓷的處理，可在真空、反應(yīng)氣體和高至100巴的壓力下工作。低孔隙度是高質(zhì)量硬質(zhì)合金的重要標(biāo)志，氣體壓力燒結(jié)能有效消除硬質(zhì)合金孔隙度，達(dá)到真空、氫氣燒結(jié)爐無(wú)法達(dá)到的效果。隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，硬質(zhì)合金生產(chǎn)技術(shù)不斷進(jìn)步，壓力燒結(jié)已經(jīng)成為高質(zhì)量硬質(zhì)合金燒結(jié)的一種主導(dǎo)技術(shù)。在硬質(zhì)合金生產(chǎn)工藝中，燒結(jié)是決定硬質(zhì)合金結(jié)構(gòu)與性能的關(guān)鍵工序。是生產(chǎn)高性能硬質(zhì)合金的關(guān)鍵設(shè)備，經(jīng)壓力燒結(jié)的硬質(zhì)合金制品，具有極優(yōu)良的組織結(jié)構(gòu)，...

漲知識(shí)！PECVD系統(tǒng)工藝干貨分享

PECVD系統(tǒng)技術(shù)是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上（即樣品放置的托盤(pán)）產(chǎn)生輝光放電，利用輝光放電（或另加發(fā)熱體）使樣品升溫到預(yù)定的溫度，然后通入適量的工藝氣體，這些氣體經(jīng)一系列化學(xué)反應(yīng)和等離子體反應(yīng)，最終在樣品表面形成固態(tài)薄膜。在反應(yīng)過(guò)程中，反應(yīng)氣體從進(jìn)氣口進(jìn)入爐腔，逐漸擴(kuò)散至樣品表面，在射頻源激發(fā)的電場(chǎng)作用下，反應(yīng)氣體分解成電子、離子和活性基團(tuán)等。這些分解物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成形成膜的初始成分和副反應(yīng)物，這些生成物以化學(xué)鍵的形式吸附到樣品表面，生成固態(tài)膜的晶核...

連續(xù)式回轉(zhuǎn)爐能夠?qū)崿F(xiàn)高密封精度的指標(biāo)要求

連續(xù)式回轉(zhuǎn)爐適用于無(wú)機(jī)鹽粉體材料（如磷酸鐵鋰、碳酸錳、碳酸鋇）、金屬粉體等在氧化性（如空氣）或還原性氣氛（如氮?dú)浠旌蠚猓┫碌谋簾磻?yīng)，也適用于化工行業(yè)催化劑載體氧化性處理以及石墨烯、納米材料、稀土等高新材料?；剞D(zhuǎn)窯的主要特點(diǎn)：在熱處理即焙燒過(guò)程中，回轉(zhuǎn)筒體有個(gè)小傾斜度，散裝固體在窯中不斷地從進(jìn)料端移動(dòng)到出料端。窯爐一般都是連續(xù)、自動(dòng)運(yùn)行的。它們可以直接運(yùn)輸散裝固體，而不需要進(jìn)一步的輸送設(shè)備，這使得這些窯爐更加節(jié)能。由于回轉(zhuǎn)窯焙燒工藝對(duì)散裝固體或者粉體有著重要的機(jī)械影響，因此必...

氣氛管式爐在操作時(shí)，以下幾點(diǎn)得注意了

相信大多數(shù)人都知道，在工業(yè)上使用的氣氛管式爐中，許多可控氣體是可燃的，在特殊的條件下可能發(fā)生爆炸。這種爆炸可能損壞設(shè)備和威脅操作人員的人身安全。因此，在設(shè)備運(yùn)行中，應(yīng)對(duì)潛在的危險(xiǎn)給予高度重視。在已發(fā)生的事件中，特別引人注意的是，必須按照操作規(guī)程進(jìn)行操作。在可能發(fā)生危險(xiǎn)之前，必須認(rèn)真分析和研究安全操作規(guī)程。沒(méi)有多少設(shè)備在任何危急的情況下都能安全地運(yùn)行。既使能做到這一點(diǎn)，但為了提高生產(chǎn)率，技術(shù)熟練的操作者往往也不愿意在整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中使用所有的安全系統(tǒng)。下面我們一起去看看氣氛管式爐...

淺析PECVD系統(tǒng)的工藝原理

PECVD系統(tǒng)主要由真空和壓力控制系統(tǒng)、淀積系統(tǒng)、氣體及流量控制、系統(tǒng)安全保護(hù)系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)控制等部分組成。該技術(shù)是在低氣壓下，利用低溫等離子體在工藝腔體的陰極上（即樣品放置的托盤(pán)）產(chǎn)生輝光放電，利用輝光放電（或另加發(fā)熱體）使樣品升溫到預(yù)定的溫度，然后通入適量的工藝氣體，這些氣體經(jīng)一系列化學(xué)反應(yīng)和等離子體反應(yīng)，最終在樣品表面形成固態(tài)薄膜。工藝原理：在反應(yīng)過(guò)程中，反應(yīng)氣體從進(jìn)氣口進(jìn)入爐腔，逐漸擴(kuò)散至樣品表面，在射頻源激發(fā)的電場(chǎng)作用下，反應(yīng)氣體分解成電子、離子和活性基團(tuán)等。這些分解...

滑軌式管式爐淬火不充分引起變形

滑軌式管式爐是一體化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，用于1100℃以下快速升溫快速降溫的特殊工藝要求，通過(guò)移動(dòng)爐體實(shí)現(xiàn)快速冷卻的目的。同時(shí)也可以預(yù)先設(shè)定溫度，然后移動(dòng)到樣品處，達(dá)到快速升溫的效果。適合用于廣泛的RTP工藝及CVD石墨烯工藝。適用于要求升降溫速度比較快的CVD實(shí)驗(yàn)。爐體采用MXG1200開(kāi)啟式管式爐，爐底安裝有直線滑軌，當(dāng)生長(zhǎng)結(jié)束后，左右拉動(dòng)爐體能夠保證有足夠的空間使實(shí)驗(yàn)樣品移出爐體，實(shí)現(xiàn)快速降溫的要求。性能特點(diǎn)：1、工作溫度RT-1000℃；2、日本進(jìn)口智能程序控溫儀控制精準(zhǔn)，可編...